Über Plasmagestützte physikalische Gasphasenabscheidung
Plasmagestützte physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist eine Technologie, die in verschiedenen Branchen zur Beschichtung von Materialien eingesetzt wird. Bei diesem Verfahren wird ein plasmagestützter Prozess verwendet, um dünne Schichten von Materialien auf Oberflächen abzuscheiden. Dies ermöglicht die Verbesserung der Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit der beschichteten Oberflächen. Die Technologie wird hauptsächlich in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie, aber auch in der Automobil- und Medizinindustrie eingesetzt. Die Plasmagestützte physikalische Gasphasenabscheidung wird in der Regel von spezialisierten Herstellern von Beschichtungsanlagen vertrieben, die maßgeschneiderte Lösungen für die individuellen Bedürfnisse ihrer Kunden anbieten.