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Auftrag auf fast alle metallische Substrate. Herausragende chemische Beständigkeit Beständig im pH-Bereich 1-14. Hydrolyse- und Heissdampfbeständig. Einsatztemperatur von -76°C bis +150°C. Sehr glatte Oberflächen(geringere Neigung zur Bildung von Biofilmen als elektropolierter Stahl). Schweissbar mit Schweissausrüstung für Thermoplaste (300-315°C) Anlagebau: Teile im Maschinen- und Anlagenbau; Auskleidung von Leitungen, Zentrifugen, Tanks, Reaktionsbehälter, Mischerflügel. Halbleiterindustrie: Durch die hohe Reinheit bedingt wird E-CTFE bevorzugt im Kontakt mit Reinstwasser und Prozesschemikalien in der Halbleiterindustrie eingesetzt.

Die auf das Material gerichteten Plasmadüsen dienen der Erzeugung und Ausbreitung des Plasmas Das Plasma wird innerhalb der Düse durch Hochspannung zwischen einem Stator und einem Rotor erzeugt und mittels Arbeitsgas über den Düsenkopf ausgeblasen. Die in der Openair® - Plasmatechnik eingesetzten Generatoren erzeugen hohe Impulsspannungen von kurzer Einschaltdauer und positiver sowie negativer Polarität. Damit sind sie optimal zur Ansteuerung atmosphärischer Plasmasysteme geeignet.

2K-PTFE System mit sehr niedriger Sintertemperatur Auftrag auf diversen elastomeren Substraten (EPDM, PUR) Gute Antihaft-Eigenschaften und Abrasionsbeständigkeit. Auch bei tiefen Temperaturen hohe Elastizität. Maschinen und Anlagebau: sämtliche EPDM-Dichtungen, O-Ringe, Kofferraum- und Fensterdichtungen, EPDM-Gummi-Extrusionen und auch auf PUR.

Auftrag auf fast alle metallische Substrate. Hervorragende elektrische und chemische Eigenschaften. Gute Verschleissfestigkeit. UV-Beständigkeit. Erfüllt EU und FDA-Anforderungen Anlagenbau: Beschichtungsmaterial von chemischen Geräten und Behältern(Tanks), Rohre, Ventile und Armaturen. Teile im Maschinen- und Anlagebau. Hauptsächlich im Pharma- und Lebensmittelbereich