Compound und Trockenmittel für Gleitschleifanlagen, organische Strahlmittel

Compound zur Verwendung in Gleitschleifanlagen zum Reinigen, Entfetten bis hin zum Hochglanzfinish, Walnussschalen-, Maiskolbenspindelgranulat Unsere Compounds sind für die Verwendung in Geitschleifanlagen, als Zugabe zu den Gleitschleifmedien entwickelt worden. Sie eignen sich sowohl für den Nassprozess als auch für den Trockenprozess. Je nach Anwendung werden unsere Compounds als Liquid oder Pulver eingesetzt, zur Reinigung, Entfettung bis hin zum Hochglanzpolitur. Anwendbar für Stahl, Edelstahl, Aluminium, Zink, Messing, Kupfer, Titan, Gold oder auch Kunststoff. Unsere Trockenmittel bestehen aus Walnussschalengranulat oder Maiskolbenspindelgranulat und sind in diversen Körnungen erhältlich. Körnungen Walnussgranulat: 200 - 450 450 - 800 450 - 1000 800 - 1300 1000 - 1500 1000 - 1700 1300 - 1700 1700 - 2400 #5, #8, #10, #14, #16, #20, #24, #30, #36, #46, #46R, #60, #80 Körnungen Maiskolbenspindelgranulat GM 8 (2800-3800µm) GM 12 (1800-2800µm) GM 16 (800-1800µm) GM 20 (400-800µm) GM 30 (200-400µm) Neben dem Einsatz als Trockenmittel können sowohl das Walnussschalengranulat als auch das Mailkolbenspindelgranulat als Strahlmittel zur schonenden Reinigung und Entlackung ähnlich dem Duroplaststrahlmittel eingesetzt werden. Wir beraten Sie gerne. Einsatzgebiet Compound: Gleitschleifprozess, als Liquid oder Pulver Gleitschleifprozess Compound: Nass- und Trockenprozess geeignet für: Stahl, Edelstahl, Aluminium, Zink, Messing, Kupfer, Titan, Gold oder auch Kunststoff Trockenmittel: Walnussschalengranulat, Maiskolbenspindelgranulat Strahlmittel: Walnussschalengranulat, Maiskolbenspindelgranulat zur schonenden Reinigung