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Vakuum-Mischer Phoenix VMP

Vakuum-Mischer Phoenix VMP

Vakuum-Mischer für die Produktion von nieder- und hochviskose Dicht- und Klebstoffen Der Vakuum-Mischer Phoenix VMP wird für das effiziente Mischen von nieder- bund hochviskosen Dicht- und Klebstoffen wie PU, Silikone, MS-Polymere, Hybride, Plastisole uvm. verwendet. Er ist flexibel einsetzbar und für reaktive und feuchtigkeitsempfindliche Produkte geeignet. Eigenschaften: - Mischwerkzeug kann unter Vakuum aus dem Produkt ausgefahren werden - Mischwerkzeuge sind für kurze und intensive Mischphasen ausgelegt - Einfache Reinigung - Sichere Temperaturführung - Das Mischwerkzeug bestreicht den kompletten Mischraum - Variable Batchgrössen - Äusserst wartungsarm - Grosse Nutzfläche für die Positionierung von Rohstoff-Anschlüssen - An bestehende Mischbehälter anpassbar http://www.fitech.ch/files/fitechag_VMP-1.4_deutsch.pdf
Multimodefaser (MMF) G50/125/250 10GbE OM3

Multimodefaser (MMF) G50/125/250 10GbE OM3

Laser-Optimiert InfiniCor® SX + Optical Fibre IEC 60793-2-10 Typ A1a.2/ISO/IEC 11801:2002 OM3/EN 50173:2002 OM3 ANWENDUNG Applikationen für Datacenter-, Storage-und LAN-Backbone bei Datenraten bis zu 10GbE bei 850nm. Empfohlen für Neuinstallationen. Kompatibilität mit der breiten Reihe von laserbasierten und konventionellen Protokollen und Anwendungen. Die geometrischen, optischen und mechanischen Spezifikationen entsprechen allen relevanten nationalen, europäischen und internationalen Normen. ÜBERTRAGUNGS-EIGENSCHAFTEN Wellenlänge (nm) 850 1300 Dämpfung typ (verkabelt) (dB/km) 2.5 0.5 Dämpfung max (verkabelt) (dB/km) 2.7 0.7 OFL Bandbreite gemäss TIA/EIA 455-204 und IEC 60793-1-41 (MHz x km) 1500 500 Hohe Bandbreite EMB, minEMBc, (MHz x km) 2000* Gemäss TIA/EIA 455-204A und IEC 60793-1-49 Brechzahlindex 1.482 1.477 (*höhere EMB wie z.B. OM3+4700 Mhz.km auf Anfrage) MECHANISCHE EIGENSCHAFTEN Numerische Apertur 0.200+/-0.015 Kern Ø (µm) 50+/-2.5 max. Unrundheit des Kerns (%) 5 Glasmantel Ø (µm) 125+/-2 max. Unrundheit des Glasmantels (%) 1.0 max. Kern-/Mantel-Konzentrizität (µm) 1.5 max. Coating Konzentrizitätsabweichung (µm) 12 Coating Ø (µm) 245 +/-5 Prüflast (kpsi) 100