CVD-Verfahren

entwickelten. CVD-Prozesskammer: Der Plasmastrahl lässt den Diamant wachsen. CVD, ausgeschrieben Chemical Vapor Depositon, lässt den im Methan (Biogas) enthaltenen Kohlenstoff in einer dünnen Schicht als Diamant kondensieren. Erzeugt werden Diamantüberzuge auf Trägermaterial unter Energiezufuhr bei einem Unterdruck von etwa einem mbar. Die Schicht besteht aus mehr oder minder großen Diamantkristallen, welche an ihren Seiten zusammenwachsen. Beschichtete Bauteile besitzen somit quasi die beschriebenen Diamanteigenschaften. Für die meisten mikromechanischen Anwendungen reicht eine Schichtstärke von fünf Tausendstelmillimeter völlig aus. Diamant unterscheidet sich von Graphit und anderen Kohlstoffarten durch die besonders starke Aneinanderbindung der Kohlenstoffatome. Von nichts kommt freilich nichts. In diesem Fall erfordert die Verknüpfung der Kohlenstoffatome jede Menge Energie. Dazu ein geballtes Quantum an Know-how, welches im Reaktor der Sigatec SA steckt. Er resultiert aus etwa zehn Jahren intensiver Entwicklungsarbeit. Während dieser Zeit entstanden vier jeweils ausgiebig getestete Modelle. Als bislang größte ihrer Art, gestattet die aktuelle Variante eine Industrialisierung dieser Art von Diamantproduktion für die Mikromechanik. Dünne Diamantschichten sind dort gefragt, wo bereits ein zu optimierendes Werkstück existiert. In diesem Fall sind es Silizium-Komponenten, welche auf mikrotechnologischem Wege mit Hilfe von Deep Reactive Ion Etching, kurz DRIE, entstehen. Bild, Beispiel: Den Hemmungsrad von Ulysse Nardin umgibt eine 5µm dicke Schicht aus nanokristallinem Diamant den Siliziumkern. Den patentierten Trockenätzprozess für Silizium hatten Ingenieure der Robert Bosch GmbH bereits in den frühen 1990er Jahren aus der Taufe gehoben. Danach erfolgte eine kontinuierliche Weiterentwicklung. DRIE ätzt ungeschütztes Silizium mit Hilfe von Fluorionen auf chemischem Wege. Das bringt Komponenten mit geraden Kanten und beinahe perfekt glatte Flanken hervor.